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磁控濺射設備原理與應用:全面解析
發布時間:2025-05-12

磁控濺射是一種常見的薄膜沉積技術,廣泛應用于材料科學、半導體、光電子以及光學涂層等領域。磁控濺射設備通過高能粒子撞擊靶材,使靶材原子或分子逸出,沉積在基板上,形成薄膜。一、磁控濺射原理磁控濺射設備的核心原理是通過磁場增強濺射過程。濺射是指當高能粒子(通常為氬氣離子)撞擊固體材料表...

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    發布時間:2021-11-08
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    發布時間:2021-10-14
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